这篇文章主要介绍euv和duv区别有哪些，文中介绍的非常详细，具有一定的参考价值，感兴趣的小伙伴们一定要看完！

euv和duv区别：1、duv基本上只能做到25nm，而euv能满足10nm以下的晶圆权制造；2、duv主要利用光的折射原理，而euv利用的光的反射原理，内部必须为真空操作。

euv和duv区别：

1、制程范围不同

duv：基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，却无法达到10nm以下。

euv：能满足10nm以下的晶圆权制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。

2、发光原理不同

duv：光源为准分子激光，光源的波长能达到193纳米。

euv：激光激发等离子来发射EUV光子，光源的波长则为13.5纳米。

3、光路系统不同

duv：主要利用光的折射原理。其中，浸没式光刻机会在投影透镜与晶圆之间，填入去离子水，使得193nm的光波等效至134nm。

euv：利用的光的反射原理，内部必须为真空操作。

以上是“euv和duv区别有哪些”这篇文章的所有内容，感谢各位的阅读！希望分享的内容对大家有帮助，更多相关知识，欢迎关注天达云行业资讯频道！